МЕ720 (305x500мм), AQUA®MER, Фоторезист сухой пленочный негативный

AQUA MER® ME720 - представляет собой негативный фотопроявляемый фоторезист разработанный для процесса формирования тонких проводников при гальваническом осаждении меди, олова, олово/свинца, тентинг-процессе и травлении. ME720 предназначен для проявления в слабощелочном растворе, таком как карбонат натрия (Na2CO3), и для удаления в щелочном растворе, таком как гидроксид натрия (NaOH) или растворе органического амина. AQUA MER® ME720 представляет собой высокоэффективный фоторезист для гальванического осаждения меди, олова, олово/свинца. Он доступен в виде резиста толщиной 2,0 мил/50 мкм, помещенного между слоями лавсановой и полиэтиленовой пленки.
Особенностью фоторезиста является наличие небольшой ряби, которая не влияет на рабочие качества материала.

• Хорошая характеристика при Тентинг-процессе
• Легко снимается благодаря маленькому размеру частиц
• Широкие технологическое окно на каждом этапе процесса
• Хороший контраст после экспонирования для удобства проверки
• Отличная стойкость к аммиаку и кислотным травителям